| ITO透明半导体膜的研究 |
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| 引用本文： | 林钰,辛荣生,贾晓林.ITO透明半导体膜的研究[J].河南教育学院学报(自然科学版),2003,12(1):28-29. |
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| 作者姓名： | 林钰 辛荣生 贾晓林 |
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| 作者单位： | 1. 河南教育学院,化学系,河南,郑州,450014
2. 郑州大学,材料工程学院,河南,郑州,450052 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射ITO陶瓷靶的高温低氧工艺,在玻璃衬底上成功地镀制了ITO透明半导体膜,其可见光透过率达80％以上,电阻率降到3×10~(-4)(?)cm以下。
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| 关 键 词： | ITO透明半导体膜 铟锡氧化物 ITO陶瓷 直流磁控贱射 高温低氧工艺 光透过率 电阻率 |
| 文章编号： | 1007-0834(2003)01-0028-02 |
| 修稿时间： | 2002年12月11 |
Study on ITO Transparent Semiconduction Film |
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| LIN Yu,XIN Rong-sheng,JIA Xiao-lin.Study on ITO Transparent Semiconduction Film[J].Journal of Henan Education Institute(Natural Science Edition),2003,12(1):28-29. |
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| Authors: | LIN Yu XIN Rong-sheng JIA Xiao-lin |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ITO semiconductor film magnetron sputtering |
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