| 溅射气压对Al_2O_3薄膜的结构与电性能的影响 |
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| 引用本文： | 杨和梅.溅射气压对Al_2O_3薄膜的结构与电性能的影响[J].科学技术与工程,2010,10(24). |
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| 作者姓名： | 杨和梅 |
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| 作者单位： | 南京农业大学工学院,南京,210031 |
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| 摘 要： | 以纯铝为靶材,在不同溅射气压下采用直流磁控反应溅射方法制备了Al2O3薄膜。用扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、台阶仪、绝缘电阻仪和精密阻抗分析仪等分析了薄膜的表面形貌、化学成分、结构、薄膜厚度和电学性能。结果表明,随着溅射压力增大,薄膜的颗粒尺寸和厚度减小,组织细密;薄膜的化学成分主要为Al、O元素,铝氧原子比接近2:3,在250℃的低温下,溅射态的Al2O3薄膜均为非晶结构,溅射压力对Al2O3薄膜的结构和化学成分影响不明显;溅射压力为1.0Pa时的薄膜,其电阻和电阻率较大,介电性能相对较好。
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| 关 键 词： | 无机非金属材料 Al2O3薄膜 溅射气压 直流磁控反应溅射 介电性能 |
| 收稿时间： | 2010/5/27 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2010/5/27 0:00:00 |
Influence of Sputtering Pressure on Microstructures and Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films |
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| yanghemei.Influence of Sputtering Pressure on Microstructures and Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films[J].Science Technology and Engineering,2010,10(24). |
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| Authors: | yanghemei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | inorganic nonmetal material sputtering pressure dc reactive magnetron sputtering alumina thin films microstructure dielectric property |
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