| 电弧离子镀CrN薄膜的镀覆工艺研究 |
| |
| 引用本文： | 刘明明,刘述丽,张轲.电弧离子镀CrN薄膜的镀覆工艺研究[J].沈阳师范大学学报(自然科学版),2010,28(3):407-411. |
| |
| 作者姓名： | 刘明明 刘述丽 张轲 |
| |
| 作者单位： | 沈阳师范大学化学与生命科学学院,辽宁沈阳,110034 |
| |
| 基金项目： | 辽宁省教育厅重点实验室项目 |
| |
| 摘 要： | 随着氮分压增加,低分压时所产生的Cr和Cr2N的衍射峰减弱至消失,而CrN的衍射峰增强直至形成单相薄膜,薄膜表面的大颗粒密度、尺寸都减小,N2分压过大时薄膜表面的大颗粒又增加;随着脉冲偏压的施加,薄膜的表面变得均匀平整,大颗粒数量、尺寸明显减少,偏压过大时薄膜表面又有较大熔滴产生;抛光和喷砂均能降低薄膜表面大颗粒的形成。最后得到了电弧离子镀氮化铬涂层的最佳工艺。
|
| 关 键 词： | 氮化铬硬质薄膜 电弧离子镀 相结构 表面形貌 |
Deposition Technology of Arc Ion Plating CrN Film |
| |
| LIU Ming-ming,LIU Shu-li,ZHANG Ke.Deposition Technology of Arc Ion Plating CrN Film[J].Journal of Shenyang Normal University: Nat Sci Ed,2010,28(3):407-411. |
| |
| Authors: | LIU Ming-ming LIU Shu-li ZHANG Ke |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
