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脉冲激光沉积法生长的石英基ZnO薄膜特性
引用本文:何建廷,魏芹芹,杨淑连,王雅静.脉冲激光沉积法生长的石英基ZnO薄膜特性[J].山东理工大学学报,2019(4).
作者姓名:何建廷  魏芹芹  杨淑连  王雅静
作者单位:山东理工大学电气与电子工程学院
摘    要:以石英为衬底,采用脉冲激光沉积法在多种衬底温度下生长ZnO薄膜。通过对石英基ZnO薄膜X射线衍射(XRD)和分光光度计的测量,分析了薄膜的多种结构和光学参数,研究了衬底温度对薄膜的结晶质量和光学性质的影响。XRD结果显示,衬底温度为500℃时得到结晶质量最佳的ZnO薄膜。分光光度计得到的透射图谱及其微分图谱表明,ZnO薄膜的禁带宽度随衬底温度的升高而减小。

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