| 散射电场对激光烧蚀制备纳米Si晶粒分布和尺寸的影响 |
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| 引用本文： | 王英龙,宗煜,褚立志,邓泽超,丁学成.散射电场对激光烧蚀制备纳米Si晶粒分布和尺寸的影响[J].河北大学学报(自然科学版),2014,34(2):137. |
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| 作者姓名： | 王英龙 宗煜 褚立志 邓泽超 丁学成 |
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| 作者单位： | 河北大学物理科学与技术学院,河北保定,071002 |
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| 基金项目： | 973计划前期研究专项资助项目(2011CB612305);河北省自然科学基金资助项目(E2012201035;E2011201134) |
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| 摘 要： | 在10 Pa的氩气环境下采用了脉冲激光烧蚀技术(PLA),通过引入散射电场沉积制备了纳米Si晶粒薄膜.X线衍射谱(XRD)和Raman谱测量均证实了在薄膜中已经形成了纳米Si晶粒;利用扫描电子显微镜(SEM)对所制备的薄膜进行了形貌表征.结果表明,纳米Si晶粒的分布以及其平均尺寸均相对于轴向呈对称分布,加入散射电场后纳米Si晶粒的分布范围增大,其平均尺寸最大值所对应与靶的轴向夹角变大.利用MATLAB对烧蚀颗粒在散射电场的运动过程进行数值模拟,得到与实验结果一致的规律.
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| 关 键 词： | 纳米Si晶粒 散射电场 激光烧蚀 平均尺寸 |
Influence of scattering electric field on the distribution and average size of Si nanoparticles prepared by laser ablation |
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| WANG Yinglong,ZONG Yu,CHU Lizhi,DENG Zechao,DING Xuecheng.Influence of scattering electric field on the distribution and average size of Si nanoparticles prepared by laser ablation[J].Journal of Hebei University (Natural Science Edition),2014,34(2):137. |
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| Authors: | WANG Yinglong ZONG Yu CHU Lizhi DENG Zechao DING Xuecheng |
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| Keywords: | Si nanoparticles scattering electric field pulsed ablation average size |
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