| 脉冲激光制膜技术烧蚀阶段的热特性研究 |
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| 引用本文： | 谭新玉,张端明,李智华,关丽.脉冲激光制膜技术烧蚀阶段的热特性研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),2005,33(7):65-67. |
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| 作者姓名： | 谭新玉 张端明 李智华 关丽 |
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| 作者单位： | 华中科技大学,物理系,湖北,武汉,430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(50272022)，武汉市晨光计划资助项目(2004500607140). |
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| 摘 要： | 研究了用脉冲激光制备薄膜时激光烧蚀靶材的的全过程.从能量平衡原理出发,考虑气化带走热量的影响,分阶段地建立了含有气化项与热源项的适合于不同烧蚀阶段的热流方程,给出了相应的初始条件和边界条件.以单晶硅为例,用有限差分法进行模拟计算,得到了靶材在各个阶段温度随时间以及气化速度随时间的演化规律.结果表明,靶材熔融前(0
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| 关 键 词： | 脉冲激光制膜 热扩散方程 气化效应 温度演化 |
| 文章编号： | 1671-4512(2005)07-0065-03 |
| 修稿时间： | 2004年10月22 |
Thermal characteristics of the ablation process of thin films based on pulsed laser preparation technique |
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| TAN Xinyu,ZHANG Duanming,Li Zhihua,GUAN LI.Thermal characteristics of the ablation process of thin films based on pulsed laser preparation technique[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2005,33(7):65-67. |
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| Authors: | TAN Xinyu ZHANG Duanming Li Zhihua GUAN LI |
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| Institution: | Tan Xinyu Zhang Duanming Li Zhihua Guan LiTan Xinyu Doctoral Candidate, Dept. of Physics,Huazhong Umiv. of Sci. & Tech.,Wuhan 430074,China. |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulse laser preparation heat diffuse equation vaporization effect evolvement temperature |
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