| 硅单质法制备纳米SiO2及其分散稳定性研究 |
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| 引用本文： | 庞金兴,张超灿,吴力立,熊焰.硅单质法制备纳米SiO2及其分散稳定性研究[J].华中科技大学学报(自然科学版),2002,30(8):104-106,109. |
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| 作者姓名： | 庞金兴 张超灿 吴力立 熊焰 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学应用化学系 |
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| 基金项目： | 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室开放基金项目资助. |
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| 摘 要： | 以硅单质为主要原料，碱催化剂制备硅溶胶，在“原位生成”纳米SiO2的同时，采用“原位分散”和“原位表面改性”的方法，制备了粒度为8－15nm的SiO2水解散液，研究了反应时间，温度，介质PH值，分散剂和表面改性剂等因素对纳米粒子粒径，粒径分布分散稳定性的影响；该制备方法简便易行，价格便宜，并有效解决了纳米SiO2在水相中的稳定分散问题，具有广阔的应用前景。
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| 关 键 词： | 纳米粒子 原位生成 表面改性 粒径分布 分散稳定性 |
| 文章编号： | 1671-4512(2002)08-0104-03 |
Preparation of SiO2 nanoparticles by silicon and study on their dispersion stability |
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