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YIG磁性薄膜低温集成工艺
引用本文:刘锋,杨晨,任天令,于军.YIG磁性薄膜低温集成工艺[J].华中科技大学学报(自然科学版),2006,34(4):1-4.
作者姓名:刘锋  杨晨  任天令  于军
作者单位:1. 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074
2. 清华大学,微电子学研究所,北京,100084
摘    要:为使YIG磁性薄膜应用到Si集成电路中,利用Sol-Gel技术晶化温度低的特点,结合快速热处理(RTP)工艺在Si基上制备了Y2.97Bi0.03Fe5O12薄膜.讨论了Sol-Gel工艺薄膜制备条件的优化,使用原子力显微镜(AFM),X射线衍射仪(XRD)和交变梯度磁强计(AGM)研究了RTP工艺对薄膜样品表面形貌、晶相结构及静态磁性能的影响.结果显示:Sol-Gel技术有效降低了薄膜晶化温度,RTP热处理工艺对Y2.97Bi0.03Fe5O12薄膜结晶温度、晶相结构没有影响,对表面形貌影响较大,从而使薄膜静态磁性能略有降低,但通过低温退火可有效改善RTP工艺对薄膜磁性能的影响.

关 键 词:磁性薄膜  Sol-Gel法  快速热处理  静态磁性能  集成
文章编号:1671-4512(2006)04-0001-04
收稿时间:03 30 2005 12:00AM
修稿时间:2005年3月30日

Integrated processes of YIG magnetic thin film in low temperature
Liu Feng,Yang Chen,Ren Tianling,Yu Jun.Integrated processes of YIG magnetic thin film in low temperature[J].JOURNAL OF HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY.NATURE SCIENCE,2006,34(4):1-4.
Authors:Liu Feng  Yang Chen  Ren Tianling  Yu Jun
Abstract:
Keywords:magnetic thin film  Sol-Gel method  rapid thermal process  static magnetic performance  integration
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