| N2分压对磁控溅射NbN薄膜微结构与力学性能的影响 |
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| 引用本文： | 韩增虎,胡晓萍,田家万,李戈扬,顾明元.N2分压对磁控溅射NbN薄膜微结构与力学性能的影响[J].上海交通大学学报,2004,38(1):120-124. |
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| 作者姓名： | 韩增虎 胡晓萍 田家万 李戈扬 顾明元 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030 |
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| 摘 要： | 采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列NbN薄膜．用XRD和TEM表征了薄膜的相组成和微观结构，力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量，AFM观察了薄膜的表面形貌并测量了压痕尺寸以校验硬度值的准确性．研究了氮分压对薄膜相组成、微结构和力学性能的影响．结果表明，氮分压对薄膜的沉积速率、相组成、硬度和弹性模量均有明显的影响：低氮分压下，薄膜的沉积速率较高，制备的薄膜样品为六方β-Nb2N和立方δ-NbN两相结构；随氮分压的升高，薄膜形成δ-NbN单相组织，相应地，薄膜获得最高的硬度(36．6GPa)和弹性模量(457GPa)；进一步升高氮分压，获得的薄膜为δ-NbN和六方ε-NbN的两相组织，其硬度和模量亦有所降低．
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| 关 键 词： | NbN薄膜 微结构 力学性能 磁控溅射 |
| 文章编号： | 1006-2467(2004)01-0120-05 |
| 修稿时间： | 2002年12月18 |
Effect of N2 Partial Pressure on the Microstructure and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered NbN Thin Films |
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| HAN Zeng-hu,HU Xiao-ping,TIAN Jia-wan,LI Ge-yang,GU Ming-yuan.Effect of N2 Partial Pressure on the Microstructure and Mechanical Properties of Magnetron Sputtered NbN Thin Films[J].Journal of Shanghai Jiaotong University,2004,38(1):120-124. |
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| Authors: | HAN Zeng-hu HU Xiao-ping TIAN Jia-wan LI Ge-yang GU Ming-yuan |
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| Keywords: | NbN thin films microstructure mechanical properties magnetron sputtering |
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