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双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制
引用本文:李戈扬,王公耀,吴亮,李鹏兴,张流强,郑永铭.双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制[J].上海交通大学学报,1997,31(4):108-113.
作者姓名:李戈扬  王公耀  吴亮  李鹏兴  张流强  郑永铭
作者单位:上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,中国工程物理研究院
基金项目:中国工程物理研究院基金,华东分析测试中心资助
摘    要:采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪,通过六方氮化硼(h-BN)和Ti靶反应溅射制备Ti-B-N复合薄膜,并用AES、XRD和TEM等方法研究了薄膜的微结构.结果表明,室温下沉积薄膜均呈非晶态,经过400°C热处理薄膜晶化.基片加热为400°C沉积的薄膜则已晶化,TEM分析确定薄膜结构为TiN结构.显微硬度表征发现,室温沉积Ti与h-BN的原子数约为2∶1时的薄膜达到最高硬度HK2600.

关 键 词:Ti-B-N复合膜  磁控溅射  双靶反应溅射

Ti B N Composite Film Synthesized by Bi Targets Sputtering
Li Geyang,Wang Gongyao,Wu Liang,Li Pengxing.Ti B N Composite Film Synthesized by Bi Targets Sputtering[J].Journal of Shanghai Jiaotong University,1997,31(4):108-113.
Authors:Li Geyang  Wang Gongyao  Wu Liang  Li Pengxing
Abstract:
Keywords:Ti  B  N composite film  magnetron sputtering  bi  targets reactive sputtering  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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