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| 射频溅射无定形硅性质研究 | |
| 引用本文： | 费庆宇,章佩娴,彭少麒.射频溅射无定形硅性质研究[J].中山大学学报(自然科学版),1982(3). |
| 作者姓名： | 费庆宇 章佩娴 彭少麒 |
| 作者单位： | 中山大学物理学系 (费庆宇，章佩娴)，中山大学物理学系(彭少麒) |
| 摘 要： | 硅烷(SiH_4)辉光放电分解法(G D 法)和射频溅射法(S P 法)是制备氢化无定形硅(a-Si:H)薄膜的两种主要方法.前人采用GD 法制成禁带缺陷态密度很低的a-Si:H 薄膜,并成功地掺入磷和硼,制成n 型或p 型的无定形半导体材料.用SP 法制备的a-Si:H 薄膜,由于禁带缺陷态密度较大,早期被认为不适于作器件材料.近年来,通过改变沉积参数,使射频溅射无定形硅的性质有所改善.但是从光电导和光致发光强度说明,目前的工艺尚未能把缺陷态密度减到最小.这种a-Si:H 薄膜性质还不 |
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