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氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响
引用本文:王贺权,沈辉,巴德纯,汪保卫,闻立时.氧流量对直流反应磁控溅射制备TiO2薄膜的光学性质的影响[J].中山大学学报(自然科学版),2005,44(6):36-40.
作者姓名:王贺权  沈辉  巴德纯  汪保卫  闻立时
作者单位:1. 沈阳航空工业学院,机械与汽车学院,辽宁,沈阳,110034;中山大学,物理科学与工程技术学院,广东,广州,510275;东北大学,机械及自动化学院,辽宁,沈阳,110004
2. 中山大学,物理科学与工程技术学院,广东,广州,510275
3. 东北大学,机械及自动化学院,辽宁,沈阳,110004
4. 中国科学院广州能源研究所,广东,广州,510070
摘    要:应用DC(直流)反应磁控溅射设备在硅基底上制备TiO2薄膜,在工作压强为2.0×10-1 Pa,氩气流量为42.6 sccm,溅射时间为30 min的条件下,通过控制氧流量改变TiO2薄膜的光学性质.应用n&k Analyzer 1200分析器测量,当氧流量增加时薄膜的平均反射率降低,同时反射低谷向中心波长(550 nm)处移动,薄膜的消光系数k有增大的趋势,但对薄膜的折射率影响不大.通过XRD和SEM表征发现,随着氧流量的增加金红石相的TiO2增多,并且表面趋于致密平滑.

关 键 词:二氧化钛薄膜  直流反应磁控溅射  氧流量  反射率
文章编号:0529-6579(2005)06-0036-05
收稿时间:01 6 2005 12:00AM
修稿时间:2005年1月6日

Influence of Oxygen Flow on Optical Property of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering
WANG He-quan,SHEN Hui,BA De-chun,WANG Bao-wei,WEN Li-shi.Influence of Oxygen Flow on Optical Property of TiO2 Thin Film Prepared by DC Reactive Magnetron Sputtering[J].Acta Scientiarum Naturalium Universitatis Sunyatseni,2005,44(6):36-40.
Authors:WANG He-quan  SHEN Hui  BA De-chun  WANG Bao-wei  WEN Li-shi
Abstract:
Keywords:TiO2 thin film  DC reactive magnetron sputtering  oxygen flow  reflectance
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