| 双折射型晶体Interleaver公差分析的优化设计 |
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| 引用本文： | 彭芬,王陆唐,黄肇明.双折射型晶体Interleaver公差分析的优化设计[J].上海大学学报(自然科学版),2004,10(5):450-454. |
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| 作者姓名： | 彭芬 王陆唐 黄肇明 |
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| 作者单位： | 上海大学,通信与信息工程学院,上海,200072 |
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| 基金项目： | 上海市重点学科建设项目 (2 0 0 1 44) |
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| 摘 要： | 该文提出用于16波分双折射型晶体interleaver公差分析的优化设计方法.在此种器件加工过程中,对晶体的长度以及方位角都要给定一个合理的公差范围.基于这个要求,作者采用蒙特卡洛(MonteCarlo)方法,编制了一整套计算机程序去仿真在晶体加工过程中尺寸公差对器件性能的影响,并通过仿真找出最佳晶体长度和方位角的公差范围.仿真结果表明,当晶体长度和方位角公差分别为1.0μm和0.5°时可实现优化设计.
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| 关 键 词： | 公差分析 蒙特卡洛方法 梳状滤波器 双折射晶体 |
| 文章编号： | 1007-2861(2004)05-0450-05 |
| 修稿时间： | 2003年9月3日 |
Tolerance Optimization in Birefringent Crystal Interleaver |
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| PENG Fen,WANG Lu-tang,HUANG Zhao-ming.Tolerance Optimization in Birefringent Crystal Interleaver[J].Journal of Shanghai University(Natural Science),2004,10(5):450-454. |
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| Authors: | PENG Fen WANG Lu-tang HUANG Zhao-ming |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | tolerance analysis Monte Carlo method interleaver birefringent crystal |
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