| 双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术 |
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| 引用本文： | 徐军,邓新绿,张家良,陆文棋,马腾才.双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术[J].大连理工大学学报,2001,41(3):275-278. |
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| 作者姓名： | 徐军 邓新绿 张家良 陆文棋 马腾才 |
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| 作者单位： | 大连理工大学 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目! (19835 0 30 ) |
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| 摘 要： | 因其设备简单，沉积速率高等特点，磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中，但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物，氮化物膜时，为了得到化学配比的膜层，9 反应激活基因，离子等的密度必须足够大，为此对原有的微波－ECR等离一源进行了改造，研究了双放电腔微波ECR等离子体源增强磁控溅射的放电特性，并用该方法制备了氮化碳膜，结果表明，该方法是一种有效的制备化合物薄膜的技术，用该方法制备的氮化碳膜，化学成分接近化学配比。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 放电特性 氮化碳膜 等离子体源 薄膜制备 沉积 |
| 文章编号： | 1000-8608(2001)03-0275-04 |
Twinned microwave ECR plasma source enhanced magnetron sputtering |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering discharge characteristics carbon nitride film/plasma source |
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