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4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究
引用本文:陈壮梁,罗小蓉,邓小川,周春华,黄何.4H-SiC MESFET表面陷阱效应研究[J].实验科学与技术,2006,4(Z1):43-45.
作者姓名:陈壮梁  罗小蓉  邓小川  周春华  黄何
作者单位:电子科技大学,成都,610054
摘    要:分析了表面陷阱对4H-SiC MESFET直流和瞬态特性的各种影响.在直流特性上,由表面陷阱引入的附加耗尽层使得饱和电流降低和夹断电压偏移;在瞬态特性上,引起栅延迟以及跨导和输出电导的频散.表面陷阱能级和密度的变化也会影响表面陷阱效应.该文还对栅延迟现象进行了分析,并给出了电子浓度分布随时间的变化.

关 键 词:4H-SiC  MESFET  表面陷阱  直流特性  瞬态特性
文章编号:1672-4550(2006)07-0043-04
修稿时间:2006年7月19日

Study of the Surface Trap Effect in 4H-SiC MESFET
CHEN Zhuang-liang,LUO Xiao-rong,DENG Xiao-chuan,ZHOU Chun-hua,HE Huang.Study of the Surface Trap Effect in 4H-SiC MESFET[J].Experiment Science & Technology,2006,4(Z1):43-45.
Authors:CHEN Zhuang-liang  LUO Xiao-rong  DENG Xiao-chuan  ZHOU Chun-hua  HE Huang
Abstract:
Keywords:
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