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| 三价铬还原电沉积机理 | |
| 作者姓名： | 邓姝皓 龚竹青 易丹青 苏玉长 |
| 作者单位： | 1.中南大学材料科学与工程学院,湖南,长沙,410083;2.中南大学冶金科学与工程学院,湖南,长沙,410083 |
| 摘 要： | 采用循环伏安法、极化曲线、恒电流阶跃、交流阻抗等电化学方法研究了Cr3+在氯化物/N,N-二甲基甲酰胺(DMF)体系中的阴极还原机理。研究结果表明: Cr3+阴极还原分两步进行,其中第1步为不可逆过程,第2步为准可逆过程;反应无前置转化过程; Cr3+还原的极化曲线符合Tafel方程; Cr3+还原受电化学控制; Cr3+在还原过程中,电活性中间产物在电极表面吸附,随溶液浓度增大,Cr3+的扩散系数减小,但电活性中间产物在电极表面的饱和吸附量却随之增大。 |
| 关 键 词： | 三价铬 电化学 还原机理 |
| 文章编号： | 1672-7207(2005)02-0213-06 |
| 修稿时间： | 2004-10-20 |
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