| 包渗法制备硅化物涂层的结构形貌及形成机理 |
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| 引用本文： | 肖来荣,易丹青,蔡志刚,许谅亮,刘会群,黄道远.包渗法制备硅化物涂层的结构形貌及形成机理[J].中南大学学报(自然科学版),2008,39(1):48-53. |
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| 作者姓名： | 肖来荣 易丹青 蔡志刚 许谅亮 刘会群 黄道远 |
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| 作者单位： | 1. 中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙,410083;中南大学有色金属材料科学与工程教育部重点实验室,湖南长沙,410083
2. 中南大学材料科学与工程学院,湖南长沙,410083;宝山钢铁有限公司特殊钢分公司,上海,200940 |
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| 摘 要： | 采用包渗法在C-103 铌合金基体上制备MoSi2 涂层,通过X 射线衍射、扫描电镜和能谱分析等手段研究涂层表面、截面形貌以及氧化后涂层结构变化,并分析硅化过程中涂层的形成机理.研究结果表明包渗法制备硅化物涂层是通过反应扩散形成的,硅化过程服从抛物线规律;该涂层为复合结构MoSi2 相为主体层;以NbSi2相为主、并含少量Nb5Si3 相的两相为过渡区;Nb5Si3 相为扩散层.在高温氧化环境下,涂层表面生成致密的非晶氧化层,有效地阻止了氧向涂层内扩散.
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| 关 键 词： | 铌合金 包渗 硅化物涂层 反应扩散 法制 硅化物涂层 结构形貌 形成机理 pack cementation coating silicide formation mechanism 内扩散 氧化层 非晶 氧化环境 高温 扩散层 过渡区 体层 复合结构 抛物线规律 反应扩散 结果 |
| 文章编号： | 1672-7207(2008)01-0048-06 |
| 修稿时间： | 2007年3月26日 |
Microstructure and formation mechanism of silicide coating prepared by pack cementation |
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| XIAO Lai-rong,YI Dan-qing,CAI Zhi-gang,XU Liang-liang,LIU Hui-qun,HUANG Dao-yuan.Microstructure and formation mechanism of silicide coating prepared by pack cementation[J].Journal of Central South University:Science and Technology,2008,39(1):48-53. |
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| Authors: | XIAO Lai-rong YI Dan-qing CAI Zhi-gang XU Liang-liang LIU Hui-qun HUANG Dao-yuan |
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