| Ta2O5的氢热处理对有机薄膜晶体管性能的影响 |
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| 引用本文： | 彭俊彪,兰林锋,杨开霞,牛巧丽,曹镛.Ta2O5的氢热处理对有机薄膜晶体管性能的影响[J].华南理工大学学报(自然科学版),2006,34(10):105-108,112. |
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| 作者姓名： | 彭俊彪 兰林锋 杨开霞 牛巧丽 曹镛 |
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| 作者单位： | 华南理工大学高分子光电材料及器件研究所,广东,广州,510640 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(90201023,50573024)，国家973计划项目(2002CB613405) |
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| 摘 要： | 以高分子聚(2-甲氧基-5-(2-乙基-已氧基)-1,4-苯撑乙烯撑)(MEH-PPV)为半导体有源层、Ta2O5为绝缘层,制备了有机薄膜晶体管(OTFT),研究了氢热处理Ta2O5绝缘层对OTFT性能的影响,并对该器件性能改善的原因进行了分析.结果表明,经氢热处理的Ta2O5绝缘层使MEH-PPV的场效应迁移率提高了一个数量级,从1.24×10-5cm2/(V.s)提高到2.15×10-4cm2/(V.s),阈值电压有所降低.
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| 关 键 词： | 有机晶体管 氧化钽 氢热处理 |
| 文章编号： | 1000-565X（2006）10-0105-04 |
| 收稿时间： | 2005-09-02 |
| 修稿时间： | 2005-09-02 |
Influence of Thermal Treatments of Ta2O5 Gate Insulator in H2Atmosphere on Performance of Organic Thin-Film Transistors |
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| Peng Jun-biao,Lan Lin-feng,Yang Kai-xia,Niu Qiao-li,Cao Yong.Influence of Thermal Treatments of Ta2O5 Gate Insulator in H2Atmosphere on Performance of Organic Thin-Film Transistors[J].Journal of South China University of Technology(Natural Science Edition),2006,34(10):105-108,112. |
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| Authors: | Peng Jun-biao Lan Lin-feng Yang Kai-xia Niu Qiao-li Cao Yong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | organic transistor tantalum oxide thermal treatment in H_2 atmosphere |
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