| 一种简单多极磁约束的反应离子刻蚀装置的研究 |
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| 引用本文： | 黄光周,于继荣,赖国燕.一种简单多极磁约束的反应离子刻蚀装置的研究[J].华南理工大学学报(自然科学版),1995,23(8):97-101. |
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| 作者姓名： | 黄光周 于继荣 赖国燕 |
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| 作者单位： | 华南理工大学无线电工程系 |
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| 摘 要： | 本文叙述了多极磁约束的反应离子刻蚀装置。该装置具有结构简单，低损伤和各向异性刻蚀的优点。在射频率为１００ｗ，工作压强为１．３３（０．０１～１０）Ｐａ的氩气氛中，典型的离子密度为（１．０～１．５）×１０（１０）ｃｍ（－３），电子温度为１．９～４．１ｅＶ，等离子体电位１０—５０Ｖ，有磁场的离子密度比没有磁场的离子密度大几个数量级。它是一种具有广泛应用前景的等离子刻蚀装置。
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| 关 键 词： | 等离子体装置 磁约束 反应离子刻蚀 |
A STUDY OF A SIMPLE REACTIVE ION ETCHING (RIE) APPARATUS WITH A MAGNETIC MULTIPOLE CONTAINMENT |
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| Huang Guangzhou,Yu Jirong,Lai Guoyan.A STUDY OF A SIMPLE REACTIVE ION ETCHING (RIE) APPARATUS WITH A MAGNETIC MULTIPOLE CONTAINMENT[J].Journal of South China University of Technology(Natural Science Edition),1995,23(8):97-101. |
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| Authors: | Huang Guangzhou Yu Jirong Lai Guoyan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | s:plasma density plasma devices magnetic confinement magneticfields |
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