| 偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的结构和性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘伟,李岩,张菁.偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的结构和性能的影响[J].东华大学学报(自然科学版),2009,35(1). |
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| 作者姓名： | 刘伟 李岩 张菁 |
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| 作者单位： | 东华大学理学院,上海,201620 |
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| 基金项目： | 教育部长江学者和创新团队发展计划，国家自然科学摹金，自然科学基金重点项目 |
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| 摘 要： | 使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP (Ti(OC4H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较.在沉积的过程中.利用USB-2000型光纤光谱仪对等离子体的发射光谱进行测量.定性分析等离子体沉积过程中的成分组成.用UV-1901探讨薄膜的光学特性,发现紫外和近紫外区域有一定吸收;用扫描电镜分析薄膜表面形貌的变化.可以看到偏压下的薄膜致密无孔,而远离偏压下的薄膜形貌粗糙;用红外光谱分析薄膜的结构组成,可以看到明显的T1-O吸收峰.脉冲偏压下得到的薄膜在化学、光学以及电学方面有很好应用前景.
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| 关 键 词： | 等离子体 脉冲偏压 等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD) |
The Effect of Bias on Low Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of TiO2 Film and its Structure and Performance |
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| LIU Wei,LI Yan,ZHANG Jing.The Effect of Bias on Low Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition of TiO2 Film and its Structure and Performance[J].Journal of Donghua University,2009,35(1). |
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| Authors: | LIU Wei LI Yan ZHANG Jing |
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| Keywords: | TiO2 |
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