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对电子束蒸发沉积的ZnO:Al膜电学性能的研究
引用本文:葛水兵.对电子束蒸发沉积的ZnO:Al膜电学性能的研究[J].苏州大学学报(医学版),1998,14(1):62-64.
作者姓名:葛水兵
作者单位:苏州大学薄膜材料实验室,苏州大学薄膜材料实验室,苏州大学薄膜材料实验室 苏州 215006,苏州 215006,苏州 215006
摘    要:使用电子束蒸发法沉积了铝掺杂的氧化锌透明导电膜。

关 键 词:电子束蒸发沉积  氧化锌    薄膜  电学性能

INVESTIGATION ON ELECTRICAL PROPERTIES OF ZnO : Al FILM PREPARED BY ELECTRON-BEAM EVAPORATION
Ge Shuibing Cheng Shanhua Ning Zhaoyuan.INVESTIGATION ON ELECTRICAL PROPERTIES OF ZnO : Al FILM PREPARED BY ELECTRON-BEAM EVAPORATION[J].Journal of Suzhou University(Natural Science),1998,14(1):62-64.
Authors:Ge Shuibing Cheng Shanhua Ning Zhaoyuan
Abstract:
Keywords:Electron-beam evaporation  Al-doped Zinc oxide films  Substrate temperature  Electrical properties  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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