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| PECVD氮化硅介质膜Si／N比值的工艺监控 | |
| 引用本文： | 李惠军,龙莹山.PECVD氮化硅介质膜Si／N比值的工艺监控[J].山东科学,1995,8(1):14-17. |
| 作者姓名： | 李惠军 龙莹山 |
| 摘 要： | 本文介绍了作者在微电子工艺ＰＥＣＶＤ氮化硅制备过程中对其Ｓｉ／Ｎ比值进行测定及工艺监控的技术手段和方法。 |
| 关 键 词： | 钝化工艺 氮化硅 硅／氮 PECVD 薄膜 集成电路 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |
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