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氧离子束辅助PLD法生长ZnO/Si的XPS研究
引用本文:李庚伟,吴正龙,刘志凯.氧离子束辅助PLD法生长ZnO/Si的XPS研究[J].渤海大学学报(自然科学版),2007,28(1):24-27.
作者姓名:李庚伟  吴正龙  刘志凯
作者单位:1. 中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083
2. 北京师范大学分析测试中心,北京,100875
3. 中国科学院半导体材料科学实验室,北京,100083
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划);中国地质大学(北京)校科研和校改项目
摘    要:利用X射线光电子能谱(XPS)深度剖析方法对ZnO/Si异质结构同一典型样品的不同部位进行了分析。讨论了同时刻(厚度)样品的生长情况及所说明的问题。提出要使样品生长得更理想,应做到使DIBD系统连续工作。

关 键 词:ZnO/Si异质结构  X射线光电子能谱(XPS)  氧离子束辅助(O  -assisted)PLD
文章编号:23907226
修稿时间:09 13 2006 12:00AM

X-Ray photoelectron spectroscopy studies of ZnO/Si grown by O+-assisted PLD
LI Geng-wei,WU Zheng-long,LIU Zhi-kai.X-Ray photoelectron spectroscopy studies of ZnO/Si grown by O+-assisted PLD[J].Journal of Bohai University:Natural Science Edition,2007,28(1):24-27.
Authors:LI Geng-wei  WU Zheng-long  LIU Zhi-kai
Abstract:At the different positions of the same typical sample,heteroepitaxial structres ZnO/Si(lll) grown by O -assisted Pulsed Laser Deposition(PLD) have been investigated by using X-ray Phptoelectron Sppctrposcopy(XPS)depth prpofile measurements.The growth states of the sample at different time(depth)and problems included have been discussed.If the DIBD works continuosly,a sample will be grown more perfectly.
Keywords:ZnO/Si X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS)  O -assisted Pulsed Laser Deposition(PLD)
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