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非晶硅薄膜的低频辉光放电淀积

引用本文：	毛友德 ,王和照 ,刘声雷.非晶硅薄膜的低频辉光放电淀积[J].合肥工业大学学报(自然科学版),1983(1).

作者姓名：	毛友德王和照刘声雷

摘要：	本文报导了利用低频(50赫)辉光放电法淀积非晶硅薄膜。测量了膜的电阻率、光学常数和红外吸收谱。实验表明该膜有良好的肖特基势垒特性和对硅器件的表面钝化作用。
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