| 射频磁控溅射透明ZnO薄膜的退火性质分析 |
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| 引用本文： | 汪冬梅,吕珺,徐光青,吴玉程,郑治祥.射频磁控溅射透明ZnO薄膜的退火性质分析[J].合肥工业大学学报(自然科学版),2006,29(10):1185-1188. |
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| 作者姓名： | 汪冬梅 吕珺 徐光青 吴玉程 郑治祥 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学,材料科学与工程学院,安徽,合肥,230009 |
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| 基金项目： | 合肥工业大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 采用射频(RF)磁控溅射法在玻璃衬底上制备了c轴择优取向的ZnO薄膜。对所制备的ZnO薄膜在空气气氛中进行不同温度(350~600℃)的退火处理。利用XRD研究退火对ZnO薄膜晶体性能和应力状态的影响;用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌;用分光光谱仪测试薄膜的透光率。研究表明,随退火温度的升高,ZnO薄膜(002)衍射峰强度不断增强,半高宽逐渐减小;ZnO薄膜中沿c轴方向存在着的张应力在500℃退火时得到松弛;退火处理后薄膜的平均透光率变化不大,但透射光谱出现了“红移”现象。
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 RF磁控溅射 退火处理 结晶 应力 透光性 |
| 文章编号： | 1003-5060(2006)10-1185-04 |
| 修稿时间： | 2005年10月18 |
Influence of annealing on the properties of the transparent zinc oxide thin film prepared by radio frequency(RF) magnetron sputtering |
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| WANG Dong-mei,L Jun,XU Guang-qing,WU Yu-cheng,ZHENG Zhi-xiang.Influence of annealing on the properties of the transparent zinc oxide thin film prepared by radio frequency(RF) magnetron sputtering[J].Journal of Hefei University of Technology(Natural Science),2006,29(10):1185-1188. |
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| Authors: | WANG Dong-mei L Jun XU Guang-qing WU Yu-cheng ZHENG Zhi-xiang |
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| Institution: | WANG Dong-mei,L(U) Jun,XU Guang-qing,WU Yu-cheng,ZHENG Zhi-xiang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO thin film RF magnetron sputtering annealing crystallization stress transmittance |
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