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| A-Si∶O∶H薄膜的淀积速率及折射率 | |
| 引用本文： | 邹永庆.A-Si∶O∶H薄膜的淀积速率及折射率[J].淮北煤炭师范学院学报(自然科学版),1989(4). |
| 作者姓名： | 邹永庆 |
| 作者单位： | 淮北煤师院物理系 |
| 摘 要： | 本文研究了高频辉光放电等离子体分解SiH_4+H_2+H_2O混合气体淀积氢化非晶硅氧合金(a-Si:O:H)膜的淀积率及折射率,并就其放电机理对淀积速率作了初步的说明;对折射率的变化采用两种不同的物理模型进行了分析计算. |
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