| ZrW2O8薄膜的物相转变与负热膨胀系数 |
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| 引用本文： | 严学华,程晓农,肖兆娟,徐桂芳.ZrW2O8薄膜的物相转变与负热膨胀系数[J].江苏大学学报(自然科学版),2007,28(2):135-138. |
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| 作者姓名： | 严学华 程晓农 肖兆娟 徐桂芳 |
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| 作者单位： | 江苏大学,材料科学与工程学院,江苏,镇江,212013 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金
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江苏省属高校自然科学重大基础研究项目
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江苏省重点实验室基金
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江苏大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 以高纯ZrO2和WO3复合氧化物为靶材,采用射频磁控溅射方法在石英基片上制备ZrW2O8薄膜.对不同热处理温度后的薄膜进行XRD分析,结果表明,在650 ℃下薄膜为无定形,ZrW2O8晶化起始温度为650 ℃,当热处理温度高于1 100 ℃时,薄膜主要由ZrO2相组成.进一步采用高温XRD分析薄膜物相,发现在720 ℃时,能获得较纯的ZrW2O8薄膜.根据ZrW2O8晶面(2 1 1)间距随温度变化的结果,计算所制备的薄膜态ZrW2O8的热膨胀系数为-2.54×10-5/℃.SEM分析结果显示在ZrW2O8相所存在的温度范围内,薄膜非常致密而无明显孔洞.
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| 关 键 词： | 薄膜 磁控溅射 钨酸锆 热膨胀系数 |
| 文章编号： | 1671-7775(2007)02-0135-03 |
| 修稿时间： | 2006年1月5日 |
Phase transition of ZrW2O8 thin film and its coefficient of negative thermal expansion |
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| YAN Xue-hua,CHENG Xiao-nong,XIAO Zhao-juan,XU Gui-fang.Phase transition of ZrW2O8 thin film and its coefficient of negative thermal expansion[J].Journal of Jiangsu University:Natural Science Edition,2007,28(2):135-138. |
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| Authors: | YAN Xue-hua CHENG Xiao-nong XIAO Zhao-juan XU Gui-fang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film radio frequency magnetron sputtering ZrW2O8 coefficient of thermal expansion |
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