| 卤代烷类化合物紫外光解离过程的研究 |
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| 引用本文： | 张仁熙,朱杰,潘循皙,侯惠奇.卤代烷类化合物紫外光解离过程的研究[J].复旦学报(自然科学版),2002,41(4):356-360. |
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| 作者姓名： | 张仁熙 朱杰 潘循皙 侯惠奇 |
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| 作者单位： | 复旦大学环境科学研究所,上海,200433 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (2 94 772 6 52 96 0 70 0 1) |
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| 摘 要： | 探讨了在185，253．7，337.1nm的条件下，卤代烷类化合物CH3Br,CH2Br2,CF2ClBr,CF3Br,CF2HCl,CF3Cl的光解离机理，对CH3Br O2/O3,CH2Br2 O2/O3,CF2ClBr O2/O3,CF3Br O2/O3,CF2HCl O2/O3,CF3Cl O2/O3等体系的光化学反应过程及其产物进行了分析，重点讨论了含F卤代烷光氧化的共同产物CF2O的产生机理和它的稳定性，并探讨了控制卤代烷类化合物损耗臭氧层的途径。
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| 关 键 词： | 卤代烷类化合物 紫外光 解离 臭氧损耗 |
| 文章编号： | 0427-7104(2002)04-0356-05 |
On UV Photo-dissociation Process of Halogen Alkyl Compound |
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| ZHANG Ren xi,ZHU Jie,PAN Xun xi,HOU Hui qi.On UV Photo-dissociation Process of Halogen Alkyl Compound[J].Journal of Fudan University(Natural Science),2002,41(4):356-360. |
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| Authors: | ZHANG Ren xi ZHU Jie PAN Xun xi HOU Hui qi |
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| Abstract: | The mechanism of photochemical reactions,under the irradiation of 185,253.7,337.1 nm,of halogen alkyl compounds,CH 3Br,CH 2Br 2,CF 2ClBr,CF 3Br,CF 2HCl,CF 3Cl,has been explored. The photo reaction processes for the systems of CH 3Br+O 2/O 3,CH 2Br 2+O 2/O 3,CF 2ClBr+O 2/O 3,CF 3Br+O 2/O 3,CF 2HCl+O 2/O 3,CF 3Cl+O 2/O 3 have been analyzed. CF 2O,the common photo oxidation product of CF 3Cl,CF 2HCl,CF 2ClBr,CF 3Br,was further studied on its reasonable mechanism of formation and its stability. A control way of ozone depletion has also been explored. |
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| Keywords: | halogen alkyl compound UV light photo dissociation ozone depletion |
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