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| 直流四极溅射工艺研究 | |
| 引用本文： | 蔡一鸣.直流四极溅射工艺研究[J].复旦学报(自然科学版),1983(1). |
| 作者姓名： | 蔡一鸣 |
| 摘 要： | 用溅射方法可制备高熔点金属等各种材料的薄膜,并且具有粘着力强、膜厚容易控制等优点,已被科研和工业部门广泛应用. 在各种类型的溅射方法中,直流三极或四极溅射不存在射频溅射具有的那种高频辐射,故为人们乐于采用.同时,它的可调参数较多,特别适用于各种探索性的科研工作. 溅射工艺要注意的主要问题是要减少污染.尤其是在制备钨、铌、钽、钼、钛等高熔点金属薄膜时,由于高熔点金属薄膜在生长过程中对环境中的活性气体特别敏感,改善溅 |
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