| 用热脱附谱研究磷硅玻璃薄膜 |
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| 引用本文： | 罗永坚,李清华,郑国祥,罗俊一,周泽群,宗祥福.用热脱附谱研究磷硅玻璃薄膜[J].复旦学报(自然科学版),2002,41(2):151-155. |
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| 作者姓名： | 罗永坚 李清华 郑国祥 罗俊一 周泽群 宗祥福 |
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| 作者单位： | 1. 复旦大学材料科学系,上海,200433
2. 先进半导体制造公司,上海,200433 |
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| 摘 要： | 用热脱附谱（TDS）研究H2O在磷硅玻璃（PSG）中被吸附的问题。PSG是在400℃左右用化学气相淀积（CVD）方法生长的，在生长过程及以后的工序中容易吸收H2O，使器件失效。TDS是由25℃开始以20℃/min均匀升温到800℃获得的。由TDS的残余气体分析（RGA）模式可以推出H2O在PSG中的可能结合形式。建立生长、吸附、扩散和脱附等几个模型，通过实验测量了PSG中脱附的H2O随时间、温度、湿度等环境条件的变化。在VLSI多层布线中这些结果决定了许多工艺参数，如烘烤时间、金属淀积前的等待时间等。
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| 关 键 词： | 热脱附谱 磷硅玻璃薄膜 残余气体分析 |
| 文章编号： | 0427-7104(2002)02-0151-05 |
The Investigation of Phosphosilicate Glass Film by Thermal Desorption Spectroscopy |
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| LUO Yong jian ,LI Qing hua ,ZHENG Guo xiang ,LUO Jun yi ,ZHOU Ze qun ,ZONG Xiang fu.The Investigation of Phosphosilicate Glass Film by Thermal Desorption Spectroscopy[J].Journal of Fudan University(Natural Science),2002,41(2):151-155. |
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| Authors: | LUO Yong jian LI Qing hua ZHENG Guo xiang LUO Jun yi ZHOU Ze qun ZONG Xiang fu |
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| Institution: | LUO Yong jian 1,LI Qing hua 2,ZHENG Guo xiang 1,LUO Jun yi 2,ZHOU Ze qun 2,ZONG Xiang fu 1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | PSG TDS residual gas analysis(RGA) |
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