| 去污上光剂的研制 |
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| 引用本文： | 陈贻阶,田福祯,王明亮,张国良,郭庆华.去污上光剂的研制[J].天津科技大学学报,1994(2). |
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| 作者姓名： | 陈贻阶 田福祯 王明亮 张国良 郭庆华 |
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| 作者单位： | 天津轻工业学院基础科学系 |
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| 摘 要： | 论述了去污上光剂的去污上光原理，配方的选择以及主要技术指标的测定方法。结果表明，去污上光剂表面张力为２４．３×１０－３Ｎ／ｍ，５ｍｉｎ后润湿面为１４．１°～１２．９°
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| 关 键 词： | 去污，上光，表面张力，表面活性剂 |
DEVELOPMENT OF WASHING AND POLISNING AGENT |
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| Chen Yijie,Tian Fuzhen,Wang Mingliang,Zhang Guoliang,Guo ginghua.DEVELOPMENT OF WASHING AND POLISNING AGENT[J].Journal of Tianjin University of Science & Technology,1994(2). |
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| Authors: | Chen Yijie Tian Fuzhen Wang Mingliang Zhang Guoliang Guo ginghua |
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| Institution: | Chen Yijie;Tian Fuzhen;Wang Mingliang;Zhang Guoliang;Guo ginghua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | washing polishing surface tension surfactant |
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