首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

氧氩流量比对氧化铋纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究
引用本文:陈真英,周际越,邓文,彭富平.氧氩流量比对氧化铋纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究[J].广西大学学报(自然科学版),2021,46(6):1620-1627.
作者姓名:陈真英  周际越  邓文  彭富平
作者单位:北部湾大学 理学院,广西 钦州 535011;广西大学 物理科学与工程技术学院,广西 南宁 530004
摘    要:为了制备出不同光电性能的氧化铋薄膜,并明晰其性能机理,以便后续研究与氧化锌薄膜复合成压敏薄膜.采用磁控溅射法,改变溅射气氛中氧气和氩气的流量比,在玻璃衬底上制备出了三个氧化铋薄膜样品,并对其微观形貌、结构及光电性能进行了测试分析.结果表明:溅射气氛中的氧氩流量比对薄膜微结构及光电性能影响显著;不同氧氩流量比制备的Bi2 O3薄膜中均含BiO2和Bi杂相,且随着氧氩流量比由0:40增大至4:36,薄膜中Bi含量减少,BiO2增加;薄膜颜色由黑变黄;沉积速率由14 nm/min减少至12 nm/min;晶粒尺寸增大,表面趋向致密均匀,可见光区透过率由0.25%增加到56.73%;禁带宽度由0增加到3.17 eV;载流子浓度、导电性能急剧降低,调节溅射气氛中氧氩流量比可有效控制氧化铋薄膜的禁带宽度,载流子浓度等,从而获得不同光电性能的薄膜样品.

关 键 词:氧化铋薄膜  磁控溅射  氧氩流量比  微结构  光电性能

Influence of the flow ratio of oxygen to argon on Microstructure and Photoelectric properties of bismuth oxide nano-films
CHEN Zhen-ying,ZHOU Ji-yue,DENG Wen,PENG Fu-ping.Influence of the flow ratio of oxygen to argon on Microstructure and Photoelectric properties of bismuth oxide nano-films[J].Journal of Guangxi University(Natural Science Edition),2021,46(6):1620-1627.
Authors:CHEN Zhen-ying  ZHOU Ji-yue  DENG Wen  PENG Fu-ping
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号