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低温沉积Cu(InxGa1-x)Se2薄膜
引用本文:肖健平,何青,陈亦鲜,夏明.低温沉积Cu(InxGa1-x)Se2薄膜[J].科技导报(北京),2008,26(11).
作者姓名:肖健平  何青  陈亦鲜  夏明
作者单位:西南民族大学电气信息工程学院,南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,西南民族大学电气信息工程学院,西南民族大学电气信息工程学院 成都610041 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,天津300071,天津300071,成都610041,成都610041
摘    要:采用多元共蒸发工艺,在Mo覆盖的碱石灰玻璃上沉积Cu(In_xGa_(1-x))Se_2薄膜。利用X射线衍射仪、霍尔测试仪研究了Cu(In_xGa_(1-x))Se_2薄膜的晶体结构、导电性质,探讨了低温沉积过程中衬底温度与薄膜结构特性、电学特性的关系。测试结果表明,衬底温度对掺杂程度、晶相单一性、晶粒尺寸、电阻率有重要影响。衬底温度低于500℃时,CIGS材料性能会出现明显劣化。

关 键 词:低温沉积  Cu(In_xGa_(1-x))Se_2  结构特性

Low Temperature Deposition of Cu(InxGa1-x)Se2 Thin Films
XIAO Jianping,HE Qing,CHEN Yixian,XIA Ming.Low Temperature Deposition of Cu(InxGa1-x)Se2 Thin Films[J].Science & Technology Review,2008,26(11).
Authors:XIAO Jianping  HE Qing  CHEN Yixian  XIA Ming
Abstract:
Keywords:low temperature deposition  Cu(In_xGa_(1-x))Se_2 thin films  structural properties
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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