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一种采用CMOS工艺实现LDD自动温度补偿电路的方法
引用本文:乔庐峰,聂辰,徐勇,王欢,王志功.一种采用CMOS工艺实现LDD自动温度补偿电路的方法[J].解放军理工大学学报,2009,10(1):12-16.
作者姓名:乔庐峰  聂辰  徐勇  王欢  王志功
作者单位:乔庐峰,聂辰,QIAO Lu-feng,NIE Chen(解放军理工大学,通信工程学院,江苏,南京,210007);徐勇,XU Yong(解放军理工大学,理学院,江苏,南京,211101);王欢,王志功,WANG Huan,WANG Zhi-gong(东南大学,射频与光电集成电路研究所,江苏,南京,210096)  
摘    要:为了采用CMOS工艺实现单芯片半导体激光驱动器中的自动温度补偿电路,提出了温度与补偿电流之间具有差分放大器增益特性的补偿电路结构.给出了电路的原理图,讨论了补偿特性的理论分析方法.对补偿特性进行了仿真,给出了仿真曲线.整个芯片采用CSMC 0.6 μm混合信号工艺实现,测试表明,在-20℃~+85℃内可以满足常用半导体激光器的温度补偿需要,消光比的波动小于1.2 dB.

关 键 词:半导体激光器驱动电路  自动温度补偿  CMOS工艺

Implementation of ATC circuit in LDD by CMOS process
QIAO Lu-feng,NIE Chen,XU Yong,WANG Huan and WANG Zhi-gong.Implementation of ATC circuit in LDD by CMOS process[J].Journal of PLA University of Science and Technology(Natural Science Edition),2009,10(1):12-16.
Authors:QIAO Lu-feng  NIE Chen  XU Yong  WANG Huan and WANG Zhi-gong
Institution:1.Institute of Communications Engineering;PLA Univ.of Sci.& Tech.;Nanjing 210007;China;2.Institute of Science;Nanjing 211101;3.Institute of RF&OE IC's;Southeast University;Nanjing 210096;China
Abstract:
Keywords:LDD( laser diode dr iv er )  AT C( automat ic temperature compensat ion)  CMOS process
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