| R.F.溅射Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜及其光学特性研究 |
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| 引用本文： | 张柏顺,章天金,江娟,何军.R.F.溅射Ba0.5Sr0.5TiO3薄膜及其光学特性研究[J].湖北大学学报(自然科学版),2005,27(3):242-245. |
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| 作者姓名： | 张柏顺 章天金 江娟 何军 |
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| 作者单位： | 湖北大学,物理学和电子技术学院,湖北,武汉,430062;湖北大学,物理学和电子技术学院,湖北,武汉,430062;湖北大学,物理学和电子技术学院,湖北,武汉,430062;湖北大学,物理学和电子技术学院,湖北,武汉,430062 |
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| 基金项目： | 湖北省自然科学基金（2003ABA06）;湖北大学自然科学基金（030-095117） |
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| 摘 要： | 用R．F．磁控溅射法在石英衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜，应用XRD与SEM表征了BST薄膜的晶化行为及其表面形貌．在550℃衬底温度下沉积的薄膜，其表面光滑、晶粒大小分布均匀．应用双光束分光光度计，在200～900nm的波长范围测量了薄膜的透射光谱，并根据“包络法”理论计算薄膜的折射指数．结果表明，随着辐射波长从650nm减小到480nm，薄膜的折射率从2．04增加到2．15；随着波长进一步降低，折射率急速上升，到420nm时，折射率升至2．40，显示出典型的电子带间跃迁的色散曲线．由“包络法”和Tauc关系确定BST薄膜的光学能隙约为3．66eV．
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| 关 键 词： | BST薄膜 射频溅射 光学特性 极值包络法 |
| 文章编号： | 1000-2375(2005)03-0242-04 |
| 收稿时间： | 11 12 2004 12:00AM |
| 修稿时间： | 2004年11月12 |
Structural and optical properties of BST thin films prepared by sputtered processing |
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| Zhang BaiShun;Zhang TianJin;Jiang Juan;He Jun.Structural and optical properties of BST thin films prepared by sputtered processing[J].Journal of Hubei University(Natural Science Edition),2005,27(3):242-245. |
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| Authors: | Zhang BaiShun;Zhang TianJin;Jiang Juan;He Jun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | BST thin film R F sputtering microstructure optical properties envelope technique |
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