|
|||||
|
|
| 纳米压印光刻技术的研究与发展 | |
| 引用本文： | 陈建刚,魏培,陈杰峰,赵知辛,何雅娟.纳米压印光刻技术的研究与发展[J].陕西理工学院学报(自然科学版),2013(5):1-5,9. |
| 作者姓名： | 陈建刚 魏培 陈杰峰 赵知辛 何雅娟 |
| 作者单位： | 1. 西安交通大学机械工程学院，陕西西安710049; 陕西理工学院机械工程学院，陕西汉中723000 2. 西安交通大学机械工程学院,陕西西安,710049 3. 陕西理工学院机械工程学院,陕西汉中,723000 |
| 基金项目： | 国家863高技术研究发展计划资助项目(2011 AA100507)；陕西省教育厅2011年专项科研项目(11 JK0549)；陕西理工学院2012年校级横向项目 |
| 摘 要： | 介绍纳米压印光刻技术的研究现状和发展状况,分析常用的热压印(Hot Embossing Lithography,HEL)、紫外固化压印(Ultra Violet Nanoimprint Lithography,UV-NIL)及微接触压印(Micro Contact Printing,μ-CP)三种光刻的工艺过程。探讨纳米压印光刻方法的优缺点及影响压印图形质量的主要因素,旨在加深对纳米压印光刻工艺过程(模具制作、压印过程及图形转移)深层次的理解和认识,从而解决纳米压印光刻过程中存在的一些关键问题,为新型纳米压印技术的研究和发展提供必要的科学依据。 |
| 关 键 词： | 纳米压印 工艺过程 图形质量 关键问题 |
Research and development of nanoimprint lithography technology |
|
| CHEN Jian-gang , WEI Pei , CHEN Jie-feng , ZHAO Zhi-xin , HE Ya-juan.Research and development of nanoimprint lithography technology[J].Journal of Shananxi University of Technology:Natural Science Edition,2013(5):1-5,9. | |
| Authors: | CHEN Jian-gang WEI Pei CHEN Jie-feng ZHAO Zhi-xin HE Ya-juan |
| Institution: | CHEN Jian-gang;WEI Pei;CHEN Jie-feng;ZHAO Zhi-xin;HE Ya-juan;School of Mechanical Engineering,Xi’an Jiaotong University;School of Mechanical Engineering,Shaanxi University of Technology; |
| Abstract: | |
| Keywords: | nanoimprint lithography process graphics quality key problems |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ | |