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| 膜厚对NiO／NiFe／Cu／NiFe磁阻效应的影响 | |
| 引用本文： | 吴丹丹,卢志红.膜厚对NiO／NiFe／Cu／NiFe磁阻效应的影响[J].华中理工大学学报,1999,27(7):74-76. |
| 作者姓名： | 吴丹丹 卢志红 |
| 作者单位： | [1]华中理工大学电子科学与技术系 [2]中国科学院上海冶金研究所 |
| 摘 要： | 用射频磁控溅射方法制备多层膜，研究了双层膜ＮｉＯ／ＮｉＦｅ的矫顽力ＨＣ和交换耦合场Ｈｅｘ与反铁磁层ＮｉＯ，铁磁层ＮｉＦｅ厚度的关系。结果表明：ＮｉＯ厚度为７０ｎｍ时，Ｈｅｘ最大；Ｈｃ随ＮｉＯ厚度增大而增大。当ＮｉＦｅ厚度增加时，Ｈｅｘ近似线性减小；而Ｈｃ则随ＮｉＦｅ厚度增大开始有缓慢增加，然后才减小。 |
| 关 键 词： | 磁阻效应 膜厚 多层膜 氧化镍 铜 镍铁合金 |
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