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| NiO靶烧结温度对NiO／Ni81Fe19双层膜的影响 | |
| 引用本文： | 胡用时,邱进军.NiO靶烧结温度对NiO／Ni81Fe19双层膜的影响[J].华中理工大学学报,2000,28(1):79-81. |
| 作者姓名： | 胡用时 邱进军 |
| 作者单位： | 华中理工大学电子科学与技术系 |
| 摘 要： | 在不同的温度下烧结制备ＮｉＯ靶，用射频磁控溅射法淀积ＮｉＯ／Ｎｉ８１Ｆｅ１９双层膜，研究了不同的温度烧结ＮｉＯ靶对ＮｉＯ／ＮｉＦｅ双层膜特性的影响，结果表明，使用不同的烧结温度制备的ＮｉＯ靶溅射所得的ＮｉＯ膜中Ｎｉ的化学价态及其含量不同，进而影响ＮｉＯ／Ｎｉ８１Ｆｅ１９双层膜的磁滞回线的矩形度及层间交换耦合作用。 |
| 关 键 词： | 烧结温度 矫顽力 双层膜 氧化镍靶 射频磁控溅射 |
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