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| 磁粒光整加工材料去除规律研究 | |
| 引用本文： | 方建成,金洙吉.磁粒光整加工材料去除规律研究[J].华中理工大学学报,2000,28(11):85-87. |
| 作者姓名： | 方建成 金洙吉 |
| 作者单位： | [1]华中理工大学塑性成形模拟及模具技术国家重点实验室 [2]大连理工大学 |
| 摘 要： | 分析磁粒在界面的磁场力，建立切削力数学模型，研究磁粒切削过程中材料的去除规律，以平面磁粒光整加工为例，通过单因素法实验分析填充率、粒径及磁极形状对去除量的影响，并对磁场力进行模拟测量，实验结果与理论解析相吻合。 |
| 关 键 词： | 磁场力 切削力 去除规律 材料 磁粒光整加工 |
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