首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

磁控溅射靶磁场的分布
引用本文:胡作启,李佐宜.磁控溅射靶磁场的分布[J].华中理工大学学报,1997,25(11):39-41.
作者姓名:胡作启  李佐宜
作者单位:固体电子学系
摘    要:用麦克斯韦方程,推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式,并研究了靶磁场的三维分布规律,得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分量,边缘有较强的垂直分量的结果,计算结果与实验结果相符。

关 键 词:磁控溅射  磁场  刻蚀  半导体器件
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号