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磁控溅射靶磁场的分布
引用本文:
胡作启,李佐宜.磁控溅射靶磁场的分布[J].华中理工大学学报,1997,25(11):39-41.
作者姓名:
胡作启
李佐宜
作者单位:
固体电子学系
摘 要:
用麦克斯韦方程,推导了射频磁控溅射靶磁场的数学表达式,并研究了靶磁场的三维分布规律,得到了磁控靶的磁场在中心圆环有较强的水平分量,边缘有较强的垂直分量的结果,计算结果与实验结果相符。
关 键 词:
磁控溅射
磁场
刻蚀
半导体器件
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