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| PZT／SiO2／Si界面的XPS分析 | |
| 引用本文： | 于军,周文利.PZT／SiO2／Si界面的XPS分析[J].华中理工大学学报,1996,24(1):82-84. |
| 作者姓名： | 于军 周文利 |
| 摘 要： | 采用ＳＯＬ－ＧＥＬ工艺在ＳｉＯ２／Ｓｉ衬底上制备了铁电薄膜，对ＰＺＴ／ＳｉＯ２／Ｓｉ结构进行了ＸＰＳ分析，结果表明，在ＰＺＴ铁电薄膜和硅衬底之间加ＳｉＯ２使Ｆ／Ｓ界面得到了改善。 |
| 关 键 词： | PZT 二氧化硅 硅 铁电薄膜 界面 XPS |
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