|
|||||
|
|
| TiAlN保护膜的制备及结构研究 | |
| 引用本文： | 胡作启,李佐宜.TiAlN保护膜的制备及结构研究[J].华中理工大学学报,1998,26(4):28-30. |
| 作者姓名： | 胡作启 李佐宜 |
| 摘 要： | 用反应磁控溅射方法制备了ＴｉＡｌＮ薄膜，结构分析表明，当Ｔｉ的含量小于０．２５时，ＴｉＡｌＮ薄膜是Ａｌ基氮化物的闪锌矿结构，但晶格常数随Ｔｉ原子含量的增加而增大，Ｘ射线光电子能谱分析表明，ＴｉＡｌＮ薄膜有与ＡｌＮ和ＴｉＮ不同的电子结构特征。 |
| 关 键 词： | 薄膜 结构 X射线 光电子能谱 金属氮化物 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |