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| 热处理条件对热蒸镀WO3薄膜结构的影响 | |
| 引用本文： | 方国家,姚凯伦.热处理条件对热蒸镀WO3薄膜结构的影响[J].华中理工大学学报,2000,28(9):110-112. |
| 作者姓名： | 方国家 姚凯伦 |
| 作者单位： | [1]华中理工大学激光技术国家重点实验室 [2]华中理工大学物理系 |
| 摘 要： | 采用高真空热蒸发沉积技术在硅单晶Ｓｉ（１１１）衬底上沉积了ＷＯ３薄膜，借助化学刻蚀，ＳＥＭ，ＸＲＤ和Ｒａｍａｎ光谱分析等手段，了不同的热处理条件对ＷＯ３薄膜结构的影响，结果表明，在真空条件下或干燥Ａｒ气氛条件下对薄膜进行退火热处理有利于控制薄膜晶粒的生长，同时有利于增强薄膜的稳定性。 |
| 关 键 词： | WO3薄膜 热蒸发 热处理 结构 光学性质 |
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