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ITO纳米粉制备及表面修饰研究
引用本文:周洪庆,吕军华,沈晓冬,王庭慰,蔡永明,黄杏芳.ITO纳米粉制备及表面修饰研究[J].南京工业大学学报(自然科学版),2004,26(4):27-30.
作者姓名:周洪庆  吕军华  沈晓冬  王庭慰  蔡永明  黄杏芳
作者单位:1. 南京工业大学,材料科学与工程学院,江苏,南京,210009
2. 沈阳化工学院,材料科学与工程学院,辽宁,沈阳,110142
基金项目:总装"十五"重点预研项目(51412010101QT6402)
摘    要:以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为原料,采用共沉淀法制备ITO纳米粉,并对其进行表面修饰.辅助TG-DSC、FT-IR、XRD、SEM、EDS和TEM等测试方法,研究确定了适宜的制备和表面修饰工艺条件.结果表明所制ITO纳米粉具有立方晶系结构、颗粒均匀、分散性良好、与基体相容、平均粒径为20nm左右.

关 键 词:ITO  纳米粉  制备  表面修饰  共沉淀法  铟锡氧化物
文章编号:1671-7643(2004)04-0027-04
修稿时间:2003年6月17日

Study on preparation and surface modification of ITO nanopowder
Abstract:
Keywords:
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