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一种适用于互补双极技术的双层多晶硅自对准PNP晶体管的设计
引用本文:李荣强,谢正旺,曾鹏.一种适用于互补双极技术的双层多晶硅自对准PNP晶体管的设计[J].重庆邮电大学学报(自然科学版),2007,19(6):669-673.
作者姓名:李荣强  谢正旺  曾鹏
作者单位:重庆邮电大学,重庆,400065;中国电子科技集团公司第二十四研究所,模拟集成电路国家重点实验室,重庆,400060
摘    要:通过仿真与实验设计出了一种高性能的双层多晶硅自对准PNP晶体管工艺流程,分析了关键工艺技术,器件性能达到fT=8.5 GHz,β=60,BVCEO=8 V。该工艺与已有的双层多晶硅自对准NPN晶体管工艺相兼容,可用于制造高性能的互补双极电路。

关 键 词:双层多晶硅  自对准  PNP  互补双极
文章编号:1673-825X(2007)06-0669-05
收稿时间:2007-06-25
修稿时间:2007-09-05

Design of a double poly silicon self-aligned PNP transistor for C bipolar technology
LI Rong-qiang,XIE Zheng-wan,ZENG Peng.Design of a double poly silicon self-aligned PNP transistor for C bipolar technology[J].Journal of Chongqing University of Posts and Telecommunications,2007,19(6):669-673.
Authors:LI Rong-qiang  XIE Zheng-wan  ZENG Peng
Institution:Chongqing University of Posts and Telecommunications, Chongqing 400065, P.R. China
Abstract:
Keywords:double poly-silicon  self-aligned  PNP  complementary bipolar
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