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| 磁约束磁控溅射装置的磁场分析 | |
| 引用本文： | 潘婷,弥谦.磁约束磁控溅射装置的磁场分析[J].科技咨询导报,2011(3):54-55. |
| 作者姓名： | 潘婷 弥谦 |
| 作者单位： | 陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,西安,710032 |
| 基金项目： | 陕西省教育厅科研计划项目 |
| 摘 要： | 磁约束原理目前主要应用于热核聚变中,本文介绍了磁约束原理及依据磁约束原理设计的磁控溅射装置,同时利用ANSYS11.0有限元分析软件对磁约束磁控溅射装置的磁场进行模拟计算,计算磁铁数量、厚度及相对磁铁间距对磁场的影响,进而得出靶面磁场强度的分布情况,并将数值模拟数据与实验测得数据做了对比分析.结果表明,实验实测数据与有限元分析数据基本一致,模拟结果为磁约束磁控溅射装置的设计提供了比较准确的数据资料. |
| 关 键 词： | 磁约束 有限元 磁控溅射 磁场强度 |
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