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| 物理气相沉积法制备薄膜的内应力形成机理及测量方法 | |
| 引用本文： | 张瑛,杨俊峰,方前锋.物理气相沉积法制备薄膜的内应力形成机理及测量方法[J].科技咨询导报,2009(34):108-110. |
| 作者姓名： | 张瑛 杨俊峰 方前锋 |
| 作者单位： | 张瑛(中国科学院合肥物质科学研究院图书馆);杨俊峰,方前锋(中国科学院固体物理研究所,合肥,230031) |
| 摘 要： | 本文介绍了用物理气相沉积（PVD）方法制备薄膜的应力与微观结构的变化，及它们之间的相互关系，总结了应力产生的模型和机理。并就岛状模式生长多晶薄膜中的应力可逆现象给予了关注。最后，总结了当前薄膜应办的测试方法。 |
| 关 键 词： | 物理气相沉积 薄膜 内应力 |
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