| 聚二硫二丙烷磺酸钠对铜电沉积过程的表面作用机理研究 |
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| 引用本文： | 李权.聚二硫二丙烷磺酸钠对铜电沉积过程的表面作用机理研究[J].四川师范大学学报(自然科学版),1999,22(1):71-73. |
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| 作者姓名： | 李权 |
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| 作者单位： | 四川师范大学化学系,成都,610066 |
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| 摘 要： | 酸性镀铜溶液中表面活性剂聚二硫二丙烷磺酸钠的表面作用机理表现为：吸附态的聚二硫二丙烷磺酸钠与Ｃｕ＋形成表面络合物阻化铜离子的电沉积．铜的电结晶过程符合二维圆盘状瞬时成核模式
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| 关 键 词： | 聚二硫二丙烷磺酸钠 电沉积 镀铜 |
| 修稿时间： | 1998-05-05 |
STUDY ON SURFACE ACTION MECHANISM OF SODIUM POLYDITHIO-DIPROPYL SULFONATE FOR COPPER ELECTRODEPOSITION |
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| Li Quan.STUDY ON SURFACE ACTION MECHANISM OF SODIUM POLYDITHIO-DIPROPYL SULFONATE FOR COPPER ELECTRODEPOSITION[J].Journal of Sichuan Normal University(Natural Science),1999,22(1):71-73. |
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| Authors: | Li Quan |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Sodium polydithio dipropyl sulfonate Deposition Cu plating |
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