| 直流弧放电等离子体喷流CVD法高速合成金刚石薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 林书铨,刘海军.直流弧放电等离子体喷流CVD法高速合成金刚石薄膜的研究[J].西安交通大学学报,1993,27(5):25-28. |
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| 作者姓名： | 林书铨 刘海军 |
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| 作者单位： | 西安交通大学电子工程系物理电子技术专业
(林书铨，沈伯礼，唐敦乙)，西安交通大学电子工程系电子材料与元件专业
(刘海军)，西安交通大学电子工程系电子材料与元件专业(陈培基) |
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| 摘 要： | 描述了用直流弧放电等离子体喷流ＣＶＤ法来合成金刚石薄膜的过程。通过实验确定了金刚石生长的最佳条件。实验结果表明，金刚石薄膜的生长速率约为６４μｍ／ｈ。借助拉曼光谱证实了膜为金刚石膜，扫描电镜拍摄的照片清楚的显示了晶体的形状。
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| 关 键 词： | CVD法 金刚石薄膜 等离子体喷流 |
STUDY OF DIAMOND FILM GROWTH WITH HIGH RATE BY ARC PLASMA SPRAYING |
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| Lin Shuquan Shen Buli Tang Dunyi Liu Haijun Chen Peiji.STUDY OF DIAMOND FILM GROWTH WITH HIGH RATE BY ARC PLASMA SPRAYING[J].Journal of Xi'an Jiaotong University,1993,27(5):25-28. |
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| Authors: | Lin Shuquan Shen Buli Tang Dunyi Liu Haijun Chen Peiji |
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| Institution: | Department of Electronic Engineering |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | fast growth diamond film arc discharge plasma spray |
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