| ZnS多晶薄膜的磁控溅射沉积及其性能研究 |
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| 引用本文： | 肖心举,黎兵,江海波,杨慧敏,胡鹏臣,丁超,明振训,冯良桓,蔡亚平.ZnS多晶薄膜的磁控溅射沉积及其性能研究[J].西南民族学院学报(自然科学版),2013,39(2). |
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| 作者姓名： | 肖心举 黎兵 江海波 杨慧敏 胡鹏臣 丁超 明振训 冯良桓 蔡亚平 |
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| 作者单位： | 四川大学材料科学与工程学院,四川成都,610064 |
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| 基金项目： | 国家高新技术研究与发展计划(863计划)项目:Ⅱ-Ⅵ族单带差超晶格太阳电池技术 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射法,在玻璃衬底上沉积了ZnS多晶薄膜,研究了衬底温度和Ar气流量对ZnS薄膜质量的影响.利用表面轮廓仪测量了薄膜的厚度,计算了薄膜的沉积速率.使用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的微结构.通过紫外-可见光分光光度计测量了薄膜的透过谱,计算了禁带宽度.结果表明:所有制备的ZnS薄膜均为闪锌矿结构,所有样品在(111)方向具有明显的择优取向,沉积速率随着村底温度升高而降低,薄膜有较大的内应力,导致禁带宽度变窄.衬底温度为300℃时,薄膜的结晶质量最好.随着Ar气流量的增加,沉积速率增大,但薄膜的结构和光学性能都没有明显的变化.
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| 关 键 词： | 多晶ZnS薄膜 磁控溅射 衬底温度 |
ZnS thin films prepared by RF magnetron sputtering and its properties |
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